راهنمای خطی در زمینه نیمه هادی پردازش ویفر مزایای استفاده
راهنمای خطی در زمینه استفاده از پردازش ویفر نیمه هادی از مزایای قابل توجهی ، که به طور خاص در جنبه های زیر منعکس شده است:
موقعیت یابی با دقت بالا: در پاسخ به تقاضا برای دقت بالا در فرآیند فوتولیتوگرافی ، راهنمای خطی سرامیکی با زبری RA به تصویب رسیده است<0.05μm after special polishing treatment, and with advanced drive and feedback system, sub-micrometer accurate positioning can be realized. This ensures the precise alignment of the mask plate and wafer in the photolithography process, guaranteeing the accuracy of the chip's critical dimensions (CD), such as a 12-inch wafer fab after the application of the key dimensions of the chip manufacturing deviation reduced by 40%, which greatly improves the precision and yield of chip manufacturing.
High cleanliness: semiconductor manufacturing environment requires a very high℃of cleanliness, ceramic linear guide itself is not easy to adsorb particles, and can run stably in a vacuum environment, effectively reducing the impurities generated by the guide on the wafer pollution, to avoid defects due to the particles adhering to the chip caused by the chip, to ensure that the chip manufacturing process of cleanliness.
پایداری بالا و پاسخگویی قوی: در اچ و سایر فرآیندهای ، پردازش ویفر ، تغییر مکرر شروع و تغییر جهت ، سیستم گردش خون بهینه شده پس از راهنمای خطی وجود دارد ، می تواند شتاب جابجایی کشویی را تا 15 گرم انجام دهد ، در همان زمان ، هموار بودن کنترل خطای حرکات در.} 002 mm ، برای اطمینان از این که می تواند از نظر استیضاح باشد ، می تواند از نظر استیضاح می تواند عملکرد پیچیده ای باشد. کارآیی . سیستم به گونه ای طراحی شده است که تداوم و ثبات برای پردازش ویفر و بهبود راندمان تولید را فراهم می کند.
